| 摘要 |
임프린트 장치는 기판 상의 수지를 광으로 조사하는 조사 유닛과, 조사 유닛을 제어하는 제어 유닛을 포함한다. 임프린트는 기판 상의 복수의 샷 영역 중, 기판의 에지를 포함하는 에지 샷 영역에서 수행된다. 에지 샷 영역은 패턴이 형성될 패턴 형성 영역과, 패턴 형성 영역보다 에지의 측에 더 근접한 에지 근방 영역을 포함하고, 제어 유닛은 패턴면이 패턴 형성 영역 내의 수지와 접촉하게 됨에 따라 패턴 형성 영역 상의 위치로부터 에지 근방 영역 상의 위치로 확산하는 수지를 조사하도록 조사 유닛을 제어한다. |
