| 发明名称 | 一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极及其微加工工艺 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极的微加工工艺，包括：1)将石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水按1～10：400：600～700：10000～30000的质量比混合均匀后，在反应釜中进行水热合成反应，水热合成反应完毕后经过离心，干燥得到固体产物，将固体产物研磨，得到二硫化钼纳米片/石墨烯材料；2)将光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料混合均匀然后涂覆于基板上烘干，再进行紫外光刻、显影和润洗，最后进行高温热解反应得到热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极。所得的微电极具有良好的电化学性能，在微型传感器和微型储能器件等领域有着良好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN106044703A | 申请公布日期 | 2016.10.26 |
| 申请号 | CN201610382074.5 | 申请日期 | 2016.06.01 |
| 申请人 | 武汉理工大学 | 发明人 | 何亮;杨威;郭名浩;朱瑞琦;麦立强 |
| 分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人 | 张惠玲 |
| 主权项 | 一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极，包括基板与光刻在基板上的复合材料组成，其特征在于，所述复合材料由光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料组成，所述光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料的质量比为10～200：1；所述二硫化钼纳米片/石墨烯材料由石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水制成，所述石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水的质量比为1～10：400：600～700：10000～30000。 | ||
| 地址 | 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 | ||