一种化学机械研磨后的清洗装置

摘要

本发明公开了一种化学机械研磨后的清洗装置，包括兆声波水槽和水槽中设置的用于夹持并固定晶圆的滚筒，滚筒包括法兰形的第一滚筒部分和第二滚筒部分，二个滚筒部分通过其法兰形的法兰管部相互活动套接，在二个滚筒部分的法兰管套接面设有轴向移动导向结构，第一滚筒部分通过其法兰形的法兰口部外接滚筒转动驱动单元，第二滚筒部分通过其法兰形的法兰口部外接移动驱动单元，使用于夹持晶圆的二个法兰口之间的间距可以调节，避免了在滚筒夹持变形晶圆时，因晶圆的平面高度变大而对晶圆造成侧向挤压，从而消除了清洗过程中晶圆破片的问题。

主权项

一种化学机械研磨后的清洗装置，包括兆声波水槽和所述水槽中设置的用于夹持并固定晶圆的滚筒，其特征在于，所述滚筒包括法兰形的第一滚筒部分和第二滚筒部分，二个所述滚筒部分通过其法兰形的法兰管部相互活动套接，在二个所述滚筒部分的法兰管套接面设有轴向移动导向结构，所述第一滚筒部分通过其法兰形的法兰口部外接滚筒转动驱动单元，所述第二滚筒部分通过其法兰形的法兰口部外接移动驱动单元；其中，所述滚筒移动驱动单元带动所述第二滚筒部分作与所述第一滚筒部分的轴向相对移动，并通过调整位移量，将所述晶圆的边部夹持和固定在二个所述滚筒部分的法兰形法兰口部之间，所述滚筒转动驱动单元带动所述第一滚筒部分作径向转动，同时，所述第一滚筒部分通过所述轴向移动导向结构带动所述第二滚筒部分作同步转动。