| 发明名称 | 保护膜形成膜、保护膜形成用片及加工物的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种保护膜形成膜(1)，其中，所述保护膜形成膜(1)及由保护膜形成膜(1)形成的保护膜中至少一者在测定温度0℃下测定的断裂应力(MPa)与在测定温度0℃下测定的断裂应变(单位：％)之积为1MPa·％以上且250MPa·％以下。根据所述保护膜形成膜(1)，能够在对工件进行分割加工而得到加工物时对工件进行的扩片工序中对该保护膜形成膜(1)或由保护膜形成膜(1)形成的保护膜适当地进行分割。 | ||
| 申请公布号 | CN106062927A | 申请公布日期 | 2016.10.26 |
| 申请号 | CN201480076732.7 | 申请日期 | 2014.09.03 |
| 申请人 | 琳得科株式会社 | 发明人 | 佐伯尚哉;稻男洋一;山本大辅;米山裕之 |
| 分类号 | H01L21/301(2006.01)I;B23K26/53(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/301(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 王利波 |
| 主权项 | 一种保护膜形成膜，所述保护膜形成膜及由所述保护膜形成膜形成的保护膜中的至少一者在测定温度0℃下测定的断裂应力(MPa)与在测定温度0℃下测定的断裂应变(单位：％)之积为1MPa·％以上且250MPa·％以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||