发明名称 冷却机构和处理系统
摘要 本发明提供一种冷却机构(10),其特征在于,该冷却机构(10)包括:多个支承台(54),其设于形成有下降流的大气输送室(6),且沿上下方向设为多层;多个支承销(56),其设于各所述支承台(54),用于与所述被处理体(W)的背面接触而支承所述被处理体(W);和折流板(58),其设于所述支承台(54),用于利用所述下降流冷却被支承在位于该支承台(54)的下层的支承台(54)上的所述被处理体(W)。
申请公布号 CN104303284B 申请公布日期 2016.10.26
申请号 CN201380025694.8 申请日期 2013.05.02
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 熊谷圭太;佐佐木义明;菊岛博人;井富隼人
分类号 H01L21/677(2006.01)I;F24F7/06(2006.01)I;F24F13/08(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I 主分类号 H01L21/677(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种冷却机构,其特征在于,该冷却机构包括:多个支承台,其设于形成有下降流的大气输送室,多个该支承台沿上下方向设为多层;多个支承销,其设于各所述支承台,用于与被处理体的背面相接触而支承所述被处理体;和侧部冷却部件,其从支承于所述支承台的所述被处理体的侧部放出冷却气体,且使所述冷却气体沿着所述被处理体的表面流动,所述侧部冷却部件具有:冷却气体通路,其供所述冷却气体流动;和气体出口部,其设在所述冷却气体通路的出口侧且位于所述被处理体的侧方,所述冷却气体通路沿上下方向延伸且上端形成为用于引入所述下降流的引入口,以将所述下降流用作所述冷却气体。
地址 日本东京都