| 发明名称 | 尤其在微光刻投射曝光设备中的光学组件的分组件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种尤其在微光刻投射曝光设备中的光学系统的分组件，具有一元件(10、20、30、40、50、60、70)；以及至少一个温度控制装置，用于控制该元件的温度，该温度控制装置在带至少一个管状部分的闭合回路中具有冷却介质，在进行两相转变时，该冷却介质在管状部分中被输送远离该元件或被输送至该元件；以及加热装置(15、25)，用于通过加热冷却介质来中断对冷却介质的输送。 | ||
| 申请公布号 | CN106062633A | 申请公布日期 | 2016.10.26 |
| 申请号 | CN201580009184.0 | 申请日期 | 2015.02.11 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | T.施沃特纳;S.菲格雷多 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈钘;张邦帅 |
| 主权项 | 一种尤其在微光刻投射曝光设备中的光学系统的分组件，包括：·一元件(10、20、30、40、50、60、70)；以及·至少一个温度控制装置，用于控制该元件的温度；·该温度控制装置在带至少一个管状部分的闭合回路中具有冷却介质，在进行两相转变时，该冷却介质在管状部分中被输送远离该元件或被输送至该元件；以及·加热装置(15、25)，设置用于通过加热冷却介质来中断对冷却介质的输送。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||