膜层图案的制作方法、基板的制作方法及基板、显示装置

摘要

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种膜层图案的制作方法、基板的制作方法及基板、显示装置，用以解决现有技术中存在湿刻形成的电极图案发生断线及线宽存在偏差的问题。具体地，在第一膜层与光刻胶膜层之间制作一层粘性补偿膜层，由于粘性补偿膜层与第一膜层之间的粘附性以及粘性补偿膜层与光刻胶膜层之间的粘附性均大于第一膜层与光刻胶膜层之间的粘附性，从而，保证相邻膜层之间的贴合程度较好，不会出现缝隙，这样，防止刻蚀液从侧向渗入而导致第一膜层的图案产生断线，而且，还可以保证刻蚀工艺过程中刻蚀程度近乎一致，从而避免由于刻蚀程度不同而导致形成的膜层图案的临近尺寸发生偏差。

主权项

一种膜层图案的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在基底之上依次形成第一膜层、粘性补偿膜层以及光刻胶膜层，其中，所述粘性补偿膜层与所述第一膜层之间的粘附性，以及所述粘性补偿膜层与所述光刻胶膜层之间的粘附性，均大于所述第一膜层与所述光刻胶膜层之间的粘附性；对所述光刻胶膜层进行构图工艺，形成所需的光刻胶图案；利用所述光刻胶图案的遮挡，对所述粘性补偿膜层和所述第一膜层进行刻蚀工艺形成所需的粘性补偿膜层的图案和所述第一膜层的图案。