| 摘要 |
텅스텐 클로라이드(WCl)와 같은, 그러나 이로 한정되지 않는 응축 가능한 금속 할라이드 물질은 화학적 증기 증착(CVD) 또는 원자층 증착 공정에서 필름 금속 또는 금속 함유 필름을 증착시키기 위해 사용될 수 있다. 본원에는 응축 가능한 물질을 포함하는 고순도 조성물, 및 응축 가능한 물질을 정제하는 방법이 기술된다. 일 양태에서, 적어도 하나의 불순물이 실질적으로 존재하지 않는 텅스텐 헥사클로라이드를 포함하는 조성물로서, 텅스텐 헥사클로라이드가 X-선 회절에 의해 측정하는 경우에 적어도 90 중량%, 바람직하게 95 중량%, 및 더욱 바람직하게 99 중량% 이상의-WCl및 5 중량% 이하의-WCl을 포함하는 조성물이 제공된다. |
