| 摘要 |
본 발명은 반도체 제조 공정 중 웨이퍼의 불순물을 제거하기 위해 사용하는 웨이퍼 세정 장치에 관한 것이다. 상기 웨이퍼 세정 장치는, 웨이퍼를 지지하여 회전시키기 위한 스핀 척; 상기 스핀 척의 일측에 위치하고 상기 스핀 척 상의 웨이퍼로 연장되는 아암부를 갖는 세정 아암; 상기 아암부의 단부에 연결되고 웨이퍼를 향해 형성된 홈부를 갖는 고정 지그; 상기 홈부에 삽입되어 상기 고정 지그 밖으로 돌출되는 패드 부착부; 일측 면은 상기 패드 부착부에 부착될 수 있도록 접착층을 갖고, 타측 면은 웨이퍼와 접촉되는 패드면을 갖는 세정 패드; 를 포함한다. 이러한 구성에 따르면, 세정 패드가 패드 부착부에 부착되는 형식으로 되어 있어 웨이퍼를 세정하기 위한 패드의 교체가 편리하면서, 세정 패드를 통한 이물질의 배출이 용이하여 별도의 세정 약품을 필요로 하지 않고 교체 주기가 길어서 비용이 절감될 수 있는 웨이퍼 세정 장치를 제공할 수 있다. |
