发明名称 3 3 The Equipment forming 3 Dimensional Microstructure and Micropattern by Light exposure of 3 Dimensional to Photosensitive glass and The Method Using thereof
摘要 본 발명은 광선에 감광 특성을 가지는 유리를 3차원 미세 구조물 그리고 일정한 반복 패턴을 형성하기 위한 방법과 그 장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 감광성 유리를 제공하는 단계; 광선 조사 장치를 이용하여 감광성 유리의 원하는 부위만 선택적으로 조사하는 단계; 선택적으로 조사하는 단계에 있어 본 발명에서 제공하는 장치와 방법에 의해 미리 입력된 프로그램에 따라 광선 세기와 형태, 노출 시간, 위치, 각도를 제어하는 단계; 및 상기 3차원적으로 광선 조사된 감광성 유리를 열처리 한 후 불산 희석액 이나 무기산 또는 불산과 무기산의 혼합 희석액으로 식각하는 단계를 수행하여 미세 구조물 및 미세 패턴을 얻는 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR101669645(B1) 申请公布日期 2016.10.26
申请号 KR20150046421 申请日期 2015.04.01
申请人 주식회사 오피트 发明人 정승호
分类号 C03B19/00;C03C4/04;C03C15/00 主分类号 C03B19/00
代理机构 代理人
主权项
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