发明名称 加工稳定剂
摘要 加工稳定剂,其包含式(I)所示的化合物和式(II)所示的化合物,相对于式(I)所示的化合物100质量份,式(II)所示的化合物的含量为0.005~10质量份。(R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>4</sup>和R<sup>5</sup>表示氢原子、烷基、环烷基、烷基环烷基、芳烷基或苯基,R<sup>3</sup>表示氢原子或烷基。X表示单键、硫原子或>CH‑R<sup>6</sup>基。A表示亚烷基或*‑C(=O)‑R<sup>7</sup>‑基。Y和Z中的任一者表示羟基、烷氧基或芳烷基氧基,另一者表示氢原子或烷基。)<img file="227398dest_path_image002.GIF" wi="438" he="192" />
申请公布号 CN106062060A 申请公布日期 2016.10.26
申请号 CN201480077025.X 申请日期 2014.03.12
申请人 住友化学株式会社 发明人 木村奈津子
分类号 C08K5/51(2006.01)I;C08L23/00(2006.01)I;C08L101/00(2006.01)I 主分类号 C08K5/51(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 郭煜;刘力
主权项 加工稳定剂,其包含式(I)所示的化合物和式(II)所示的化合物,相对于式(I)所示的化合物100质量份,式(II)所示的化合物的含量为0.005~10质量份,<img file="449093dest_path_image001.GIF" wi="202" he="151" />式(I)中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>4</sup>和R<sup>5</sup>各自独立地表示氢原子、碳原子数1~8的烷基、碳原子数5~8的环烷基、碳原子数6~12的烷基环烷基、碳原子数7~12的芳烷基或苯基;R<sup>3</sup>表示氢原子或碳原子数1~8的烷基;X表示单键、硫原子或>CH‑R<sup>6</sup>基,R<sup>6</sup>表示氢原子、碳原子数1~8的烷基或碳原子数5~8的环烷基;A表示碳原子数1~8的亚烷基或*‑C(=O)‑R<sup>7</sup>‑基,R<sup>7</sup>表示单键或碳原子数1~8的亚烷基,*表示氧侧的键合键;Y和Z中的任一者表示羟基、碳原子数1~8的烷氧基或碳原子数7~12的芳烷基氧基,另一者表示氢原子或碳原子数1~8的烷基,<img file="897392dest_path_image002.GIF" wi="112" he="153" />式(II)中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自独立地表示氢原子、碳原子数1~8的烷基、碳原子数5~8的环烷基、碳原子数6~12的烷基环烷基、碳原子数7~12的芳烷基或苯基;R<sup>3</sup>表示氢原子或碳原子数1~8的烷基;X表示单键、硫原子或>CH‑R<sup>6</sup>基,R<sup>6</sup>表示氢原子、碳原子数1~8的烷基或碳原子数5~8的环烷基。
地址 日本东京都