发明名称 |
逻辑电路和半导体装置 |
摘要 |
本发明涉及逻辑电路和半导体装置。在时钟门控技术被执行的逻辑电路中,储用功率被降低或者故障被抑制。该逻辑电路包括晶体管,其中,在没有供给时钟信号的时段,当源极端子和漏极端子之间存在电势差时,该晶体管处于截止状态。该晶体管的沟道形成区是使用氧化物半导体形成,在该氧化物半导体中,氢浓度被降低。具体地,氧化物半导体的氢浓度为5×10<sup>19</sup>原子/立方厘米或更低。因此,可以减少晶体管的泄漏电流。结果,在该逻辑电路中,可以实现储用功率的减少以及故障的抑制。 |
申请公布号 |
CN106057819A |
申请公布日期 |
2016.10.26 |
申请号 |
CN201610557667.0 |
申请日期 |
2010.10.06 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
盐野入丰;小林英智 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H03K3/037(2006.01)I;H03K19/00(2006.01)I;H03K19/096(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
秦晨 |
主权项 |
一种半导体装置,含有第一时段和第二时段,其中,在所述第一时段,时钟信号被输入,而在所述第二时段,所述时钟信号没有被输入,所述半导体装置包括:第一晶体管,包括含有硅的半导体区域;以及第二晶体管,当在所述第二时段内在源极端子和漏极端子之间存在电势差时,所述第二晶体管处于截止状态,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管彼此电连接,其中所述第二晶体管的沟道形成区是使用氧化物半导体形成的,在所述氧化物半导体中,氢浓度为5×10<sup>19</sup>原子/立方厘米或更低,其中所述第二晶体管在源极和漏极之间的电压为1V或10V的情况下的每单位沟道宽度的断态电流为1×10<sup>-17</sup>A/微米或更低,并且其中所述第二晶体管通过以下步骤形成:在第一热处理中对所述氧化物半导体进行脱氢;在所述氧化物半导体之上形成氧化物绝缘层;以及对所述氧化物绝缘层和所述氧化物半导体进行第二热处理。 |
地址 |
日本神奈川 |