发明名称 |
旋转预混气的MOCVD上下盘匀气组件 |
摘要 |
本专利公开了一种在匀气盘内预先混气的匀气组件,包括:第一混气空腔,所述混气空腔中具有圆形截面的第一混气空间,所述第一混气空间中设置有第一喷嘴和第二喷嘴组;所述第一喷嘴沿着所述圆形的直径向内和向外两个方向喷射第一气体;所述第二喷嘴组包括多个沿着所述圆形半径设置的第二喷嘴,所述第二喷嘴沿着垂直于所述半径的方向喷射第二气体,形成旋转气流;第二混气空腔,一腔壁上设置有入口与所述第一混气空腔连通;另一腔壁上设置有出口与匀气组件外部连通;以及冷却层。通过采用上述技术方案,能够提高MOCVD反应气体混合的均匀程度,并且利用冷却层隔离所述匀气组件和周围环境,避免了混合气体在所述匀气组件中的预反应。 |
申请公布号 |
CN106011792A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610596826.8 |
申请日期 |
2016.07.26 |
申请人 |
北京中科优唯科技有限公司 |
发明人 |
梁勇;曾一平;王军喜;段瑞飞;李晋闽;李辉 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 |
代理人 |
胡剑辉 |
主权项 |
一种旋转预混气匀气组件,其特征在于,包括:第一混气空腔,所述混气空腔中具有圆形截面的第一混气空间,所述第一混气空间中设置有第一喷嘴和第二喷嘴组;所述第一喷嘴沿着所述圆形的半径向内和向外两个方向喷射第一气体;所述第二喷嘴组包括多个沿着所述圆形半径设置的第二喷嘴,所述第二喷嘴沿着垂直于所述半径的方向喷射第二气体,形成旋转气流;第二混气空腔,一腔壁上设置有入口与所述第一混气空腔连通;另一腔壁上设置有出口与匀气组件外部连通;冷却层,所述冷却层设置在所述第二混气空腔的所述另一腔壁上。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区经海五路58号院5号楼7层708室 |