| 摘要 |
본 발명은 MEG 재생 시스템에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 플래쉬 세퍼레이터의 탑저에 존재하는 슬러리 형태의 유체 점도를 고온수를 이용하여 공정에 영향을 미치지 않으면서 제어할 수 있도록 하여, 시스템의 가동률을 높이면서도 MEG의 손실을 최소화할 수 있는 MEG 재생 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 MEG 재생 시스템은 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 상기 증류탑으로부터 린 MEG를 공급받아 상기 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터; 및 상기 증류탑으로부터 배출되는 고온의 응축수를 상기 플래쉬 세퍼레이터의 하단부에 존재하는 슬러리 형태의 염 성분에 공급하는 고온수공급라인;을 포함한다. |
