发明名称 一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃
摘要 一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一SiAl基膜层、第一AZO膜层、第一NiCr阻挡层、Ag层、第二NiCr阻挡层、第二AZO膜层、第二SiAl膜层、稀土TiO<sub>2</sub>复合膜层;所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板;所述第一SiAl层的厚度为50‑100nm,所述第一AZO膜层的厚度为10‑30nm,所述第一NiCr阻挡层的厚度为3‑10nm,所述Ag层的厚度为3‑9nm,所述第二NiCr阻挡层的厚度为3‑10nm、所述第二AZO膜层的厚度为10‑30nm、所述第二SiAl膜层的厚度为厚度为50‑100nm,所述稀土TiO<sub>2</sub>复合膜层的厚度为15‑200nm。本实用新型的积极效果是:本装置解决了普通自清洁玻璃的透过率低、反射率高以及增透自清洁玻璃红外透过率高,不够节能环保的问题。
申请公布号 CN205635374U 申请公布日期 2016.10.12
申请号 CN201620223283.0 申请日期 2016.03.22
申请人 河北物华天宝镀膜科技有限公司 发明人 杨宏斌;冷庆吉
分类号 C03C17/36(2006.01)I 主分类号 C03C17/36(2006.01)I
代理机构 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人 叶树明
主权项 一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,其特征在于,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一SiAl基膜层、第一AZO膜层、第一NiCr阻挡层、Ag层、第二NiCr阻挡层、第二AZO膜层、第二SiAl膜层、稀土TiO<sub>2</sub>复合膜层;所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板;所述第一SiAl层的厚度为50‑100nm,所述第一AZO膜层的厚度为10‑30nm,所述第一NiCr阻挡层的厚度为3‑10nm,所述Ag层的厚度为3‑9nm,所述第二NiCr阻挡层的厚度为3‑10nm、所述第二AZO膜层的厚度为10‑30nm、所述第二SiAl膜层的厚度为厚度为50‑100nm,所述稀土TiO<sub>2</sub>复合膜层的厚度为15‑200nm。
地址 300000 河北省廊坊市固安县工业园区北区