发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR MEASUREMENT OF BEAM ANGLE IN ION IMPLANTATION
摘要 이온 비임 각도 검출 장치는 프로파일러 상판 내에 형성된 프로파일러 구멍 및 프로파일러 센서 조립체를 포함하는 가변 프로파일러 조립체에 고정적으로 부착되는 선형 드라이브 조립체, 및 마스크 구멍을 갖춘 가변 각도 마스크를 포함하며, 상기 가변 프로파일러 조립체에 단단하지 않게 부착되는 가변 각도 마스크 조립체를 포함하며, 상기 마스크 구멍은 상기 가변 프로파일러 조립체에 단단히 부착된 마스크 선형 드라이브를 활성화함으로써 상기 프로파일러 구멍에 대해 이동가능하며, 상기 프로파일러 구멍은 상기 이온 비임의 긴 길이보다 더 긴 길이를 통해 이동가능하다.
申请公布号 KR101663960(B1) 申请公布日期 2016.10.12
申请号 KR20117003935 申请日期 2009.06.23
申请人 액셀리스 테크놀러지스, 인크. 发明人 미트첼, 로버트;반데르베르그, 보
分类号 H01J37/317;H01J37/304 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
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