| 发明名称 | 圆筒型的溅射靶、烧结体、成形体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供应变小、强度高的圆筒型溅射靶及圆筒型成形体、圆筒型溅射靶、圆筒型烧结体、圆筒型成形体及其制造方法。或者，提供均质性高的圆筒型溅射靶、圆筒型烧结体、圆筒型成形体及其制造方法。本发明的一个实施方式的溅射靶具有圆筒型烧结体，圆筒型烧结体的相对密度为99.7％以上且99.9％以下。另外，圆筒型溅射靶具有隔着规定的间隔而相邻的多个圆筒型烧结体，相邻的多个圆筒型烧结体之间的相对密度之差可以为0.1％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN106011754A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
| 申请号 | CN201610154405.X | 申请日期 | 2016.03.17 |
| 申请人 | JX金属株式会社 | 发明人 | 山口洋平 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人 | 郭放;许伟群 |
| 主权项 | 一种圆筒型溅射靶，其特征在于，具有隔着间隔而相邻的多个氧化铟锡或氧化铟镓锌的圆筒型烧结体，上述圆筒型烧结体的相对密度为99.7％以上且99.9％以下，相邻的多个上述圆筒型烧结体之间的相对密度之差为0.1％以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||