发明名称 |
用于薄膜处理应用的装置和方法 |
摘要 |
根据本公开,提供一种柔性基板涂布装置。所述柔性基板涂布装置包括真空工艺腔室,用以处理柔性基板。所述真空工艺腔室包括一或多个沉积单元以及定位在所述一或多个沉积单元的直接下游的清洁单元。在另一方面中,提供一种用于将薄膜沉积在柔性基板上的方法。所述用于将薄膜沉积在柔性基板上的方法包括:真空涂布所述柔性基板,由此将一或多个层沉积在所述柔性基板上;以及在所述涂布的直接下游清洁所述柔性基板。 |
申请公布号 |
CN106029944A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201480075991.8 |
申请日期 |
2014.02.21 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
T·德皮施 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
侯颖媖 |
主权项 |
一种柔性基板涂布装置(100),包括:‑真空工艺腔室(60),所述真空工艺腔室用以处理柔性基板(140),所述真空工艺腔室包括一或多个沉积单元(680);以及‑清洁单元(150),所述清洁单元被定位在所述一或多个沉积单元的直接下游。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |