发明名称 薄膜晶体管
摘要 本发明涉及一种薄膜晶体管,其在基板上具有:栅极电极;半导体层;栅极绝缘层,设置于该栅极电极与该半导体层之间,且由有机高分子化合物形成;及源极电极及漏极电极,设置成与该半导体层接触,并经由该半导体层而连结,在所述栅极绝缘层中,选自Mg、Ca、Ba、Al、Sn、Pb、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn及Ag的金属的含量在总量中为10ppb~1ppm,或者选自卤素离子、硫酸根离子、硝酸根离子及磷酸根离子的非金属离子物质的含量在总量中为1ppm~100ppm。
申请公布号 CN106030823A 申请公布日期 2016.10.12
申请号 CN201580009803.6 申请日期 2015.02.26
申请人 富士胶片株式会社 发明人 泷泽裕雄
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I;H01L21/47(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 庞东成;张志楠
主权项 一种薄膜晶体管,在基板上具有:栅极电极;半导体层;栅极绝缘层,该栅极绝缘层设置于该栅极电极与该半导体层之间,且由有机高分子化合物形成;及源极电极及漏极电极,该源极电极及漏极电极设置成与该半导体层接触,并经由该半导体层而连结,其中,在所述栅极绝缘层中,选自Mg、Ca、Ba、Al、Sn、Pb、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn及Ag的金属的含量在总量中为10ppb~1ppm,或者选自卤素离子、硫酸根离子、硝酸根离子及磷酸根离子的非金属离子物质的含量在总量中为1ppm~100ppm。
地址 日本东京都