发明名称 基于衍射的重叠量测工具和方法
摘要 一种用于确定在衬底上的第一光栅和第二光栅之间的重叠误差的方法,所述第二光栅位于第一光栅的顶部上,第二光栅具有与第一光栅大致相同的节距,第二光栅和第一光栅形成复合光栅,所述方法包括:提供第一照射束,用于在入射角度下沿着所述衬底的表面在第一水平方向上照射所述复合光栅;和测量来自所述复合光栅的第一级衍射束的第一强度;提供第二照射束,用于在所述入射角度下沿着所述衬底的表面在第二水平方向上照射所述复合光栅,其中所述第二水平方向与所述第一水平方向相反;和测量来自所述复合光栅的负第一级衍射束的第二强度。
申请公布号 CN106019855A 申请公布日期 2016.10.12
申请号 CN201610585948.7 申请日期 2008.12.09
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 A·J·登鲍埃夫
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张启程
主权项 一种用于确定衬底的表面上的第一图案和叠加到所述第一图案上的第二图案之间的重叠误差的方法,所述第一图案包括第一光栅,所述第二图案包括在所述第一光栅的顶部上的第二光栅,所述第二光栅具有与所述第一光栅大致相同的节距,所述第二光栅和所述第一光栅形成复合光栅,所述方法包括步骤:提供第一照射束,用于在入射角度下以不对称方式照射至少所述复合光栅,所述第一照射束具有沿着所述衬底的表面在第一水平方向上的分量,所述衬底位于固定位置;测量来自所述复合光栅的第一级衍射束的第一强度;提供第二照射束,用于在所述入射角度下以不对称方式照射至少所述复合光栅,所述第二照射束具有沿着所述衬底的表面在第二水平方向上的分量,其中所述第二水平方向与所述第一水平方向相反,所述衬底位于所述固定位置;和测量来自所述复合光栅的负第一级衍射束的第二强度。
地址 荷兰维德霍温
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