发明名称 | 一种改善MOCVD外延片均匀性的石墨盘 | ||
摘要 | 一种改善MOCVD 外延片均匀性的石墨盘,本实用新型涉及MOCVD 外延片生产技术领域,小石墨盘通过栓支撑在大石墨盘上;在所述小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽,所述边缘片槽沿所述中心片槽的外周均匀分布;在所述小石磨盘的所述中心片槽的底面设有螺旋凹槽。本实用新型使得中心片槽不同部位的温度有不同的降低,消除了由于栓导热造成的小盘中心局部温度较高的现象,改善了小盘中心片槽生长外延片的均匀性,同时也降低了小石墨盘中心和边缘温度差异,最终获得了整体均匀性很好的外延片。 | ||
申请公布号 | CN205635768U | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
申请号 | CN201620374837.7 | 申请日期 | 2016.04.28 |
申请人 | 扬州中科半导体照明有限公司 | 发明人 | 赵新印;孙一军;童星;王恩平;肖志;王辉;王国宏 |
分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
代理机构 | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人 | 江平 |
主权项 | 一种改善MOCVD 外延片均匀性的石墨盘,包括大石墨盘和小石墨盘,所述小石墨盘通过栓支撑在大石墨盘上;在所述小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽,所述边缘片槽沿所述中心片槽的外周均匀分布;其特征在于:在所述小石磨盘的所述中心片槽的底面设有螺旋凹槽。 | ||
地址 | 225009 江苏省扬州市开发区临江路186号 |