| 发明名称 | 沉积材料的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及沉积材料的方法和设备。本发明提供一种在腔室内用脉冲DC磁控装置通过脉冲DC磁控溅射将介电材料沉积到衬底上的方法，所述脉冲DC磁控装置产生一个或多个初级磁场；其中，溅射材料从靶材中溅射出，其中，所述靶材和所述衬底隔开2.5～10cm的间隙，并且在所述腔室内产生次级磁场，所述次级磁场引起由所述脉冲DC磁控装置产生的等离子体向所述腔室的一个或多个壁扩展。 | ||
| 申请公布号 | CN106011761A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
| 申请号 | CN201610201666.2 | 申请日期 | 2016.03.31 |
| 申请人 | SPTS科技有限公司 | 发明人 | 斯蒂芬·R·伯吉斯;R·辛德曼;阿米特·拉斯托吉;保罗·埃杜拉多·利马;C·L·威迪克斯;保罗·理查;斯科特·海莫尔;丹尼尔·库克 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 吕艳英;张颖玲 |
| 主权项 | 一种在腔室内用脉冲DC磁控装置通过脉冲DC磁控溅射将介电材料沉积到衬底上的方法，所述脉冲DC磁控装置产生一个或多个初级磁场；其中，从靶材中溅射出溅射材料，其中，所述靶材和所述衬底隔开2.5～10cm的间隙，并且在所述腔室内产生次级磁场，所述次级磁场引起由所述脉冲DC磁控装置产生的等离子体向所述腔室的一个或多个壁扩展。 | ||
| 地址 | 英国新港 | ||