发明名称 |
用于抛光钴的浆液以及衬底抛光方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于抛光钴的浆液以及衬底抛光方法。所述浆液包含:经配置以执行抛光的研磨剂,所述研磨剂包括氧化锆颗粒;经配置以分散研磨剂的分散剂;以及经配置以加速抛光的抛光加速剂。所述抛光加速剂包含含有胺基和羧基的有机酸。依据根据示范性实施例的浆液,钴的抛光速率可增加而无需使用氧化剂,且可抑制钴的表面上的局部腐蚀缺陷。 |
申请公布号 |
CN106010296A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610157056.7 |
申请日期 |
2016.03.18 |
申请人 |
优备材料有限公司 |
发明人 |
朴珍亨 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
杨贝贝;臧建明 |
主权项 |
一种用于抛光钴的浆液,包括:研磨剂,经配置以执行抛光,所述研磨剂包括氧化锆颗粒;分散剂,经配置以分散所述研磨剂;以及抛光加速剂,经配置以加速所述抛光,其中所述抛光加速剂包括含有胺基和羧基的有机酸。 |
地址 |
韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面鹤村路10 |