| 发明名称 | 一种磁控溅射真空镀膜设备 | ||
| 摘要 | 本发明属于镀膜机产品技术领域，具体公开一种磁控溅射真空镀膜设备，包括带有抽气口的真空镀膜室以及控制电源，所述真空镀膜室侧壁上设有若干组直立型平面孪生磁控靶，所述平面孪生磁控靶的周围设有开合式挡板装置，所述真空镀膜室内设有立式的平面离子源。该真空镀膜设备，工件薄膜沉积均匀，性能稳定，极大提高工件的镀膜效率和效果，此外，设备简单实用，制作成本低。 | ||
| 申请公布号 | CN106011765A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
| 申请号 | CN201610556466.9 | 申请日期 | 2016.07.12 |
| 申请人 | 广东振华科技股份有限公司 | 发明人 | 潘振强;朱惠钦 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人 | 曹爱红 |
| 主权项 | 一种磁控溅射真空镀膜设备，包括带有抽气口的真空镀膜室以及控制电源，其特征在于：所述真空镀膜室侧壁上设有若干组直立型平面孪生磁控靶，所述平面孪生磁控靶的的周围设有开合式挡板装置，所述真空镀膜室内设有立式的平面离子源。 | ||
| 地址 | 526020 广东省肇庆市端州区肇庆大道南侧（8）区厂区北面1卡车间 | ||