发明名称 |
反射镜,包含这种反射镜的投射物镜,以及包含这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备 |
摘要 |
本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’),其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%,以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’),其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成,其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层,该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’),其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外,本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B),用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR,和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%,及/或作为阻挡层,用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。 |
申请公布号 |
CN103229248B |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201180056893.6 |
申请日期 |
2011.09.13 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
发明人 |
R.弗赖曼;N.贝尔;G.林巴赫;T.贝姆;G.威蒂克 |
分类号 |
G21K1/06(2006.01)I |
主分类号 |
G21K1/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邱军 |
主权项 |
一种包含基底(S)和层布置的反射镜(1a;1a’;1b;1b’;1c;1c’),其中,所述层布置被设计为使得以在0°和30°之间的入射角入射于所述反射镜(1a;1a’;1b;1b’;1c;1c’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%,以及所述层布置包含至少一个表面层系(P”’),其由单独层的至少两个周期(P<sub>3</sub>)的周期序列构成,其中所述周期(P<sub>3</sub>)包含由用于高折射率层(H”’)和低折射率层(L”’)的不同材料构成的两个单独层,其特征在于:所述层布置包含由石墨烯构成的至少一个层(G、SPL、B)。 |
地址 |
德国上科亨 |