发明名称 |
磁隧道结以及磁存储器 |
摘要 |
本发明实施例公开一种磁隧道结MTJ以及磁存储器,该MTJ从上到下依次包括第一铁磁层、势垒层、第二铁磁层、缓冲层、第三铁磁层和重金属层,其中:第一铁磁层、第二铁磁层和第三铁磁层均包括混合金属材料,势垒层包括金属氧化物材料,缓冲层包括非铁磁材料;第一铁磁层的磁化方向为固定方向,第二铁磁层与第三铁磁层形成铁磁耦合或反铁磁耦合。实施本发明实施例,可以提高磁隧道结中的第三铁磁层的磁化方向的翻转速度,提高MTJ的可靠性,并可以降低写入电流,从而降低功耗。 |
申请公布号 |
CN106025063A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610339183.9 |
申请日期 |
2016.05.19 |
申请人 |
华为技术有限公司 |
发明人 |
张博宇;赵巍胜;廖宇 |
分类号 |
H01L43/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/08(2006.01)I |
代理机构 |
广州三环专利代理有限公司 44202 |
代理人 |
郝传鑫;熊永强 |
主权项 |
一种磁隧道结MTJ,其特征在于,从上到下依次包括第一铁磁层、势垒层、第二铁磁层、缓冲层、第三铁磁层和重金属层,其中:所述第一铁磁层、所述第二铁磁层和所述第三铁磁层均包括混合金属材料,所述势垒层包括金属氧化物材料,所述缓冲层包括非铁磁材料;所述第一铁磁层的磁化方向为固定方向,所述第二铁磁层与所述第三铁磁层形成铁磁耦合或反铁磁耦合。 |
地址 |
518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼 |