一种具有倒梯形桥墩的空气桥制作方法

摘要

本发明公开了一种具有倒梯形桥墩的空气桥制作方法，包括步骤：1)在GaAs或GaN基片上旋涂第一层正性光刻胶；2)在第一层正性光刻胶上光刻出具有倒梯形结构的桥墩图形；3)磁控溅射形成桥墩及桥面起镀层；4)旋涂第二层光刻胶，光刻形成桥面保护图形；5)湿法腐蚀去除多余金属；6)干法刻蚀去除桥面保护光刻胶；7)电镀加厚桥面金属；8)使用有机溶剂去除牺牲层，即第一层正性光刻胶，得到所需的空气桥。本发明方法的制作工艺简单，并不使用高温烘烤，且制得的空气桥结构坚固，在高温、震动等恶劣环境中不会轻易倒塌。

主权项

一种具有倒梯形桥墩的空气桥制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)在GaAs或GaN基片上旋涂第一层正性光刻胶；2)在第一层正性光刻胶上光刻出具有倒梯形结构的桥墩图形；3)磁控溅射形成桥墩及桥面起镀层；4)旋涂第二层光刻胶，光刻形成桥面保护图形；5)湿法腐蚀去除多余金属；6)干法刻蚀去除桥面保护光刻胶；7)电镀加厚桥面金属；8)使用有机溶剂去除牺牲层，即第一层正性光刻胶，得到所需的空气桥。