发明名称 一种离子印迹的制备方法及其对镝离子的吸附应用
摘要 本发明涉及一种新型离子印迹的制备方法,尤其涉及一种离子印迹的制备方法及其对镝离子的吸附应用。本发明以(Et<sub>3</sub>O)<sub>3</sub>Si(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>CH[C(O)CH<sub>3</sub>]<sub>2</sub>为配体,对介孔材料进行改性;该复合改性材料对镝离子有高效选择性和较高的吸附容量,并具有非常高的回收率。
申请公布号 CN106000322A 申请公布日期 2016.10.12
申请号 CN201610389883.9 申请日期 2016.06.02
申请人 江苏大学 发明人 刘恩利;郑旭东;张福生;卫潇;闫永胜
分类号 B01J20/22(2006.01)I;B01J20/28(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;C02F1/28(2006.01)I;C02F1/62(2006.01)I 主分类号 B01J20/22(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种离子印迹的制备方法,其特征在于按照如下步骤进行:(1*)向单口圆底烧瓶中加入蒸馏水,再加入DyCl<sub>3</sub>,待其溶解后,加入橘黄色油状液体状的配体(Et<sub>3</sub>O)<sub>3</sub>Si(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>CH[C(O)CH<sub>3</sub>]<sub>2</sub>,搅拌反应得到产物;(2*)向三口圆底烧瓶中加入蒸馏水,再加入浓盐酸,再加入模板剂P123,用电动机械搅拌器搅拌反应,得到产物;(3*)将步骤(1*)得到的产物加入到步骤(2*)得到的产物中,反应后向其中加入TEOS,搅拌反应后得到产物;(4*)将步骤(3*)得到的产物装釜,反应得到镝离子印迹的纳米结构复合吸附材料。
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