| 摘要 |
본 발명은 종형의 반응 용기 내에서 기판 유지구에 선반 형상으로 유지된 기판에 대하여 처리 가스를 사용해서 처리를 행함에 있어서, 양호한 성막 처리를 안정적으로 행하는 것을 제공한다. 반응 용기(1) 내에 원료 가스를 공급하는 스텝과, 반응 용기(1) 내의 분위기를 치환한 후, 반응 용기(1) 내에 O가스를 공급하는 스텝과, 반응 용기(1) 내를 진공 배기하는 가스 배기 스텝과, 반응 용기(1) 내를 퍼지하는 스텝을 이 순서로 실행한다. 그리고 가스 배기 스텝의 종료 시에, 반응 용기(1)의 배기로(24)를 흐르는 가스 중의 수분 농도를 검출하고, 이 검출값과 설정값을 비교해서 수분 농도의 검출값이 설정값을 초과하였을 때는, 가스 배기 스텝의 시간을 연장함으로써, 반응 용기(1) 내의 분위기 치환 작용을 증대시킨다. 이 때문에 반응 용기(1) 내의 수분 농도가 낮은 상태에서, 다음 회의 원료 가스를 공급하는 스텝이 실시되므로, 양호한 성막 처리를 안정적으로 행할 수 있다. |
