发明名称 SOURCE SUPPLY APPARATUS SOURCE SUPPLY METHOD AND STORAGE MEDIUM
摘要 WCl을 승화해서 원료를 성막 처리부에 공급함에 있어서, 원료의 공급량을 안정시키는 기술을 제공한다. 내부에 고체 원료를 박막으로서 석출시킨 제1 및 제2 원료 포착부(41, 42)의 온도를 조정해서 원료를 승화시켜, 캐리어 가스와 함께 승화한 원료를 소비 구역에 공급하고 있다. 또한 제1 및 제2 원료 포착부(41, 42)로부터 성막 처리부(1A 내지 1C)에 공급되는 원료의 유량을 측정하고, 원료의 유량의 측정값에 기초하여, 고체 원료의 온도를 조정해서 원료의 승화량을 조정하여, 원료의 공급량을 제어하고 있다. 제1 및 제2 원료 포착부(41, 42)에 원료를 박막으로서 석출시키고 있기 때문에, 제1 및 제2 원료 포착부(41, 42)의 온도 조정에 의해, 빠르게 원료의 승화량을 조정할 수 있다. 따라서 원료의 유량의 측정값에 기초하여 원료 공급원의 온도를 조정함으로써 소비 구역에 공급되는 원료의 양을 안정시킬 수 있다.
申请公布号 KR20160115767(A) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20160034526 申请日期 2016.03.23
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 MOROI MASAYUKI;MAEKAWA KOJI
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/66;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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