发明名称 EQUIPMENT AND METHOD FOR MONITORING PARTICLE IN VACUUM CHAMBER
摘要 본 발명은 진공 챔버에서 입자의 크기 및 수를 모니터링하도록 하여 기준치 이상의 파티클이 존재하는 것으로 판단되면 챔버를 청소할 필요가 있음을 알려 줄 수 있도록 구성한 진공 챔버의 파티클 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로, 챔버로부터 유출되는 가스스트림의 통로를 형성하며 챔버로부터 연장되어 형성된 가스관, 가스관과 챔버의 연결지점에 설치되어 형성되어 분사기에서 분사되는 가스스트림의 속도를 측정하기 위한 센서, 가스관으로부터 일측으로 분기된 제1 분기관, 가스관으로부터 분기된 제2 분기관, 제1 분기관에 연결되어 챔버로부터 가스를 유입시켜 가스스트림을 발생시켜 저진공 상태로 만드는 드라이펌프, 제2 분기관에 연결되어 챔버로부터 가스를 유입시켜 가스스트림을 발생시켜 고진공 상태로 만드는 터보펌프, 가스관의 일측에 형성되어 유출되는 가스스트림에 포함된 파티클들의 크기를 측정하고 파티클의 개수를 측정하는 평면레이저를 생성하여 입사시키는 레이저빔 발사부, 레이저발사부로부터 투사된 레이저를 수신하는 레이저수신부 및 레이저수신부로부터 평면빔의 정보를 수신하고 센서로부터 가스스트림의 속도를 수신하여 단위 시간당 파티클의 개수 및 파티클의 직경을 계산하고 파티클변화량을 계산하는 제어부로 구성되어, 파티클의 크기를 감지하고 개수를 카운팅할 수 있는 효과가 있다.
申请公布号 KR20160114783(A) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20150040857 申请日期 2015.03.24
申请人 NEO SEMITECH CO., LTD. 发明人 KIM, SUN KAK;CHOI, GIL WOONG
分类号 H01L21/66;H01L21/02 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
地址