| 摘要 |
패턴 단면의 형상이 수직에 가까워서 전사 특성이나 미세화에 적합하고, 또한 고노광량(고도우즈량)으로 전사를 행해도 전사 결함이 적은 포토마스크가 되는 포토마스크 블랭크의 제공 및 상기 특성을 갖는 포토마스크의 제조 방법을 제공한다. 또한, 고정밀의 표시 장치를 높은 수율로 제조하는 방법을 제공한다. 투명 기판 상에 차광층과 반사 저감층이 적층된 포토마스크 블랭크이며, 상기 차광층은, 차광층 표면으로부터 투명 기판을 향해서 에칭 속도가 단계적 또는 연속적으로 빨라지도록 복수층의 적층막을 포함하고 있고, 해당 차광층 중 기판측에 형성되는 하층부는, 파장 436nm에서의 광학 농도가 1.0 이상인 포토마스크 블랭크로 한다. 또한, 그 포토마스크 블랭크를 사용해서 포토마스크를 제조한다. 그리고, 그 포토마스크를 사용해서 표시 장치를 제조한다. |
