发明名称 一种钴铬合金薄膜材料的制备方法
摘要 本发明公开了一种钴铬合金薄膜材料及其制备方法,钴铬合金薄膜材料包括钴Co元素、铬Cr元素两种元素;各元素的质量百分比为:Co:20~30%,Cr:70~80%,钴铬合金薄膜厚度为1~10μm。上述的钴铬合金薄膜材料的制备方法采用电铸方法,以硫酸盐体系作为电铸液,金属阴阳极置于电铸液中,并在阴极沉积钴铬合金;所述电铸液具体包括:220~260g/L的铬酸酐、60~100g/L的硫酸钴、40~50 g/L的硫酸铵。本发明可以制得高稳定性、高耐蚀性、良好生物相容性的均匀钴铬合金薄膜材料,在医疗产品方面具有广泛的应用前景。
申请公布号 CN103205618B 申请公布日期 2016.10.05
申请号 CN201210010765.4 申请日期 2012.01.16
申请人 昆山允升吉光电科技有限公司 发明人 魏志凌;高小平;孙倩;王峰
分类号 C22C27/06(2006.01)I;C25D1/00(2006.01)I 主分类号 C22C27/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种钴铬合金薄膜材料的制备方法,其特征在于,所述钴铬合金薄膜材料由Co 钴元素、Cr 铬元素组成;其中,各元素的质量百分比为:Co :20% ~ 30%,Cr :70% ~ 80%;所述钴铬合金薄膜材料的制备方法采用电铸方法,以硫酸盐体系作为电铸液,金属阴阳极置于电铸液中,并在阴极沉积钴铬合金;所述电铸液具体包括:220~260g/L的铬酸酐、60~100g/L的硫酸钴、40~50 g/L的硫酸铵。
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