用于校准过程控制设备的压力控制

摘要

本发明涉及用于校准过程控制设备的压力控制。一种用于校准定位器的方法，该方法包括：确定与致动器的特定状态相对应的压力值，其中，致动器由定位器来控制，并且根据设定点压力来控制致动器内的压力，其中，设定点压力是基于压力值的，以使得保持致动器的特定状态。该方法还包括：接收指示致动器内的实际压力的所测量的值，以及基于所测量的值和设定点压力来确定定位器的偏置。

主权项

一种校准定位器的方法，所述方法包括：确定与致动器的特定状态相对应的压力值，其中，所述致动器由所述定位器来控制；利用所述定位器、根据设定点压力来控制所述致动器内的压力，其中，所述设定点压力是基于所述压力值的，以使得所述致动器的所述特定状态被保持；接收所测量的值，所测量的值指示所述致动器内的实际压力；以及基于所测量的值和所述设定点压力来确定所述定位器的偏置。