用于沉浸式光刻光学系统的清洗方法

摘要

一种用于沉浸式光刻光学系统的清洗方法，涉及的沉浸式光刻装置具有用于保持刻线板的刻线板台，用于保持工件的工件台，和位于工件对面、由照射源和光学元件组成的光学系统，用于通过照射源的辐射投影刻线板的图像。在光学元件和工件之间限定一个间隙，并且一个流体供应器件用于向该间隙内提供沉浸流体，从而在沉浸式光刻处理中使供应的沉浸流体与光学元件和工件均接触。具有一个清洗器件，其用于在清洗处理期间从光学元件除去吸附的液体。该清洗器件可以使用与被吸附液体具有亲和力的清洗液体、加热、真空条件、超声波振荡或者空化泡来除去吸附的液体。清洗液体可以通过相同的具有切换器件例如阀的流体施加器件加以提供。

主权项

一种用于沉浸式光刻装置的清洗方法，其中在沉浸式光刻处理期间，用于光刻的工件位于台上，具有光学元件的投影光学系统在所述工件的上方并与之相对，在所述光学元件与所述工件之间提供间隙，所述方法包括如下步骤：在清洗处理期间将清洗器件置于所述台上；以及在所述清洗处理期间藉由喷嘴在所述光学元件与于所述台上的所述清洗器件之间供应液体，所述光学元件在所述清洗处理期间与所供应的液体接触，其中在所述沉浸式光刻处理期间所述喷嘴供应沉浸液体到在所述光学元件与所述工件之间的间隙，其中所述液体的供应与所供应的所述液体的收集在所述清洗处理期间继续进行。