发明名称 |
空间光调制器及其光场三维显示系统 |
摘要 |
一种裸眼立体显示技术领域的空间光调制器及其光场三维显示系统,该空间光调制器采用一个二维阵列或由一个一维阵列和与之相连的一维扫描机械装置构成的模拟二维阵列得以实现;阵列中的每一个像素由一个光线偏转器进行控制。该光场三维显示系统包括:光源模块和与之相连的空间光调制器。本发明具有大偏转角、高偏转精度,快速响应的优点,来实现大可视角、大再现深度、高分辨率的光场三维显示。 |
申请公布号 |
CN103777432B |
申请公布日期 |
2016.10.05 |
申请号 |
CN201410075523.2 |
申请日期 |
2014.03.04 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
李燕;苏翼凯;荣娜;陈超平;陆建钢;吴佳旸;高武然 |
分类号 |
G02F1/29(2006.01)I;G02B27/22(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/29(2006.01)I |
代理机构 |
上海交达专利事务所 31201 |
代理人 |
王毓理;王锡麟 |
主权项 |
一种空间光调制器,其特征在于,采用一个二维阵列或由一个一维阵列和与之相连的一维扫描机械装置构成的模拟二维阵列得以实现;所述的阵列中的每一个像素由一个光线偏转器进行控制;所述的光线偏转器包括:平行于光传播的方向设置的上、下基板、位于上基板内侧的第一电极、位于下基板内侧的第二电极以及设置于上、下基板间的蓝相液晶层;所述的光线偏转器内设有:设置于上基板内侧的第三电极以及设置于下基板内侧的第四电极;所述的电极的厚度为20纳米到10微米;通过控制第一和第二电极或者第三和第四电极,得以控制光线往两个不同方向偏转,总的最大偏转角度为单边偏转角度的两倍。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号 |