一种抛光砖的抛光工艺

摘要

本发明公开了一种抛光砖的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）前磨边：对砖体进行尺寸上的首次初步修正；2）刮平：对砖体厚度进行修正，使其达到要求厚度；3）抛光: 分为粗抛、中抛和精抛，从最初的120目到最终的3000目，用材质为硬塑料的刷子对砖体进行抛光处理;4)后磨边:对砖体尺寸进行二次修正，以达到规定的标准尺寸，该环节精度高;5)检测：人工对砖面的平整度进行复查，保证产品质量，通过机器对砖面的平整度进行检测，检出凸面和凹面的不合格砖，通过对砖体拉对角线，审核砖体尺寸；6）超洁亮:通过材质为布条和刷子的超洁亮处理机在砖面进行高度运转，进行超洁亮处理;7)打蜡：为砖面附上一层蜡水。使用该工艺进行抛光砖抛光规范规范，生产过程简单，生产效率高，抛光砖生产质量高，抛光效果好，砖面亮度亮。

主权项

一种抛光砖的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）前磨边：对砖体进行尺寸上的首次初步修正；2）刮平：对砖体厚度进行修正，使其达到要求厚度；3）抛光: 分为粗抛、中抛和精抛，从最初的120目到最终的3000目，用材质为硬塑料的刷子对砖体进行抛光处理;4) 后磨边:对砖体尺寸进行二次修正，以达到规定的标准尺寸，该环节精度高;5)检测：人工对砖面的平整度进行复查，保证产品质量，通过机器对砖面的平整度进行检测，检出凸面和凹面的不合格砖，通过对砖体拉对角线，审核砖体尺寸；6）超洁亮:通过材质为布条和刷子的超洁亮处理机在砖面进行高度运转，进行超洁亮处理;7) 打蜡：为砖面附上一层蜡水。