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노광에 의해 산을 발생하고, 산의 작용에 의해 현상액에 대한 용해성이 변화하는 레지스트 조성물로서, 산의 작용에 의해 현상액에 대한 용해성이 변화하는 기재 성분 (A) 와, 노광에 의해 산을 발생하는 산 발생제 성분 (B) 와, 광 반응성 퀀처 (D0) 을 함유하고, 상기 광 반응성 퀀처 (D0) 이 하기 일반식 (d0) 으로 나타내는 화합물 (D0-1) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 레지스트 조성물 [식 중, Ra은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, Ra, Ra은, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기이다. X는 카운터 아니온이다.] [화학식 1] |
