发明名称 存储装置
摘要 根据实施方式,存储装置具有控制部、连接于所述控制部的第1电极及第2电极、及设置在所述第1电极与所述第2电极之间且具有硫属化合物的电阻变化层。所述电阻变化层具有第1结构、及具有与所述第1结构不同的结晶结构的第2结构。所述控制部具有:第1动作,对所述第1电极与所述第2电极之间施加第1电压;第2动作,对所述第1电极与所述第2电极之间施加低于所述第1电压的第2电压,判定所述电阻变化层是否为所述第2结构;及第3动作,对夹隔所述第2动作中判定并非为所述第2结构的所述电阻变化层的所述第1电极与所述第2电极之间施加高于所述第1电压及所述第2电压的第3电压。
申请公布号 CN105977377A 申请公布日期 2016.09.28
申请号 CN201510556122.3 申请日期 2015.09.02
申请人 株式会社东芝 发明人 山本和彦;铃木都文
分类号 H01L45/00(2006.01)I;H01L27/24(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 张世俊
主权项 一种存储装置,其特征在于包含:控制部;第1电极及第2电极,连接于所述控制部;及电阻变化层,设置在所述第1电极与所述第2电极之间,且具有包含晶界的硫属化合物;所述电阻变化层具有:第1结构;及第2结构,具有与所述第1结构不同的所述晶界的结构;所述控制部具有:第1动作,对所述第1电极与所述第2电极之间施加第1电压;第2动作,对所述第1电极与所述第2电极之间施加低于所述第1电压的第2电压,判定所述电阻变化层是否具有所述第1结构;及第3动作,对夹隔所述第2动作中判定为具有所述第1结构的所述电阻变化层的所述第1电极与所述第2电极之间,施加高于所述第1电压及所述第2电压的第3电压。
地址 日本东京