发明名称 RADIATION SOURCE
摘要 입사하는 방사선 빔(2)을 수용하고, 타겟에 반사된 방사선 빔을 지향하는 패싯 반사기(32, 32")가 개시된다. 패싯 반사기는 복수의 패싯들을 포함하고, 복수의 패싯들 각각은 반사 표면을 포함한다. 복수의 패싯들의 제 1 서브세트의 각각의 반사 표면들은 제 1 연속 표면의 각 부분들을 정의하고, 제 1 방향으로 입사하는 방사선 빔의 각 제 1 부분들을 반사하여 반사된 방사선 빔의 제 1 부분을 제공하도록 배치된다. 복수의 패싯들의 제 2 서브세트의 각각의 반사 표면들은 제 2 연속 표면의 각 부분들을 정의하고, 제 2 방향으로 입사하는 방사선 빔의 각 제 2 부분들을 반사하여 반사된 방사선 빔의 제 2 부분을 제공하도록 배치된다.
申请公布号 KR20160113278(A) 申请公布日期 2016.09.28
申请号 KR20167023658 申请日期 2014.12.19
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 EURLINGS MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;KLEEMANS NIEK ANTONIUS JACOBUS MARIA;VAN DIJSSELDONK ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS;HOFSTRA RAMON MARK;NOORDMAN OSCAR FRANCISCUS JOZEPHUS;PHAM TIEN NANG;VAN SCHOOT JAN BERNARD PLECHELMUS;WANG JIUN CHENG;ZHANG KEVIN WEIMIN
分类号 G03F7/20;G02B27/09;H05G2/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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