| 发明名称 | 用于铟氧化物层的蚀刻剂组合物、阵列基板制作方法、用于液晶显示装置的阵列基板和导线 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于铟氧化物层的蚀刻剂组合物，并更具体地涉及包括以下化合物的用于铟氧化物层的蚀刻剂组合物：硝酸和/或亚硝酸、氯化合物、硫酸盐、环胺化合物、磷酸盐和水；制作用于液晶显示装置的阵列基板的方法；用于液晶显示装置的阵列基板；和导线。 | ||
| 申请公布号 | CN105969360A | 申请公布日期 | 2016.09.28 |
| 申请号 | CN201610119104.3 | 申请日期 | 2016.03.02 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 沈庆辅;李昔准;张晌勋 |
| 分类号 | C09K13/06(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I | 主分类号 | C09K13/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人 | 钟锦舜 |
| 主权项 | 用于铟氧化物层的蚀刻剂组合物，其包括：相对于所述组合物的总重量，2重量％‑10重量％的选自硝酸和亚硝酸中的一种或多种酸(A)；0.1重量％‑5重量％的氯化合物(B)；0.1重量％‑5重量％的硫酸盐(C)；0.1重量％‑5重量％的环胺化合物(D)；0.1重量％‑5重量％的磷酸盐(E)；和余量的水(F)。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||