一种用于光波导晶圆生产的湿法清洗装置及其清洗方法

摘要

本发明涉及晶圆生产领域，具体涉及一种用于光波导晶圆生产的湿法清洗装置及其清洗方法。该装置包括设备框架，设备框架左右两端均设有晶舟架，设备框架内设有HPM清洗槽、SPM清洗槽、多个DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽、BOE清洗槽、硬掩模清洗槽以及转运机器人；HPM清洗槽、SPM清洗槽、多个DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽、BOE清洗槽和硬掩模清洗槽均设有自动定时装置，且HPM清洗槽、SPM清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽和硬掩模清洗槽均设有自动加热装置和恒温装置。该湿法清洗装置可实现晶圆清洗的自动化，其清洗方法提高了清洗效果。

主权项

一种用于光波导晶圆生产的湿法清洗装置，其特征在于，包括设备框架，所述设备框架左右两端均设有晶舟架，所述晶舟架用于盛放晶圆，所述设备框架内设有HPM清洗槽、SPM清洗槽、多个DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽、BOE清洗槽、硬掩模清洗槽、转运机器人以及计算机；在所述计算机的控制下，所述转运机器人将所述晶舟架上的晶圆转运至上述各个清洗槽。