| 发明名称 | 自动扩展缺陷图形库的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种自动扩展缺陷图形库的方法，包括：第一步骤，用于准备表示原始缺陷图形的缺陷图形原始数据；第二步骤，用于通过使得所述原始缺陷图形的一部分相对于所述原始缺陷图形的剩余部分移动，和/或通过使得所述原始缺陷图形的至少一部分的关键尺寸变化，对所述原始缺陷图形的关键尺寸进行分批演变，由此自动生成虚拟缺陷图形数据库；第三步骤，用于对虚拟缺陷图形进行工艺偏差模拟，并根据工艺偏差模拟的结果筛选出新的缺陷图形；第四步骤，用于将新的缺陷图形添加到缺陷图形库以形成新的缺陷图形数据，由此使缺陷图形库得到扩展。 | ||
| 申请公布号 | CN103745072B | 申请公布日期 | 2016.09.28 |
| 申请号 | CN201410042444.1 | 申请日期 | 2014.01.29 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 朱忠华;王伟斌;魏芳;朱骏;张旭升 |
| 分类号 | G06F17/50(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 陆花 |
| 主权项 | 一种自动扩展缺陷图形库的方法，其特征在于包括：第一步骤，用于准备表示原始缺陷图形的缺陷图形原始数据；第二步骤，用于通过使得所述原始缺陷图形的一部分相对于所述原始缺陷图形的剩余部分移动，和/或通过使得所述原始缺陷图形的至少一部分的关键尺寸变化，对所述原始缺陷图形的关键尺寸进行分批演变，由此自动生成虚拟缺陷图形数据库；第三步骤，用于对虚拟缺陷图形进行工艺偏差模拟，并根据工艺偏差模拟的结果筛选出新的缺陷图形；第四步骤，用于将新的缺陷图形添加到缺陷图形库以形成新的缺陷图形数据，由此使缺陷图形库得到扩展。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号 | ||