薄膜涂覆方法及实施该方法的生产线

摘要

本组发明涉及在大规模生产中用于处理表面的处理设备，具体地说，一种施加具有设定光学、电学和其他特性的薄膜涂层的真空处理设备。技术效果是确保能处理柔性大尺寸基板及小尺寸基板，且具有高度的涂层均匀性，且能够使用广泛的技术和处理装置，以及施加材料的高效有用的操作。所述技术效果通过提供一种在基板上施加薄膜涂层的方法来实现，所述基板放置到旋转鼓上，其以相同恒定的线速度和角速度依次沿着处理区移动。另外，选择所述鼓线速度和角速度的比率，以使得通过处理区时，所述鼓表面上的每一个点进行至少两次完整的公转。另外，所述技术效果也可通过以下事实来实现，在施加薄膜涂层的生产线中包括进口气闸室、内有至少一个处理装置的处理室(其形成处理区)，出口缓冲室、输送系统和基板支架(设计用于通过各室)。所述基板支架设计成其上安装有鼓的滑架，所述鼓以滑架移动方向同轴地安装，设计用于旋转，且在处理过程中，移动的旋转角速度和线速度将是恒定的且经选择，以确保通过处理区时，所述圆通表面上的每一个点进行至少两次完整的公转。另外，输送系统装配有辊，并且所述滑架装配有与辊接触的导轨。

主权项

在基板上施加薄膜涂层的方法，其包括将基板设置在支架上和随后所述基板支架通过处理室的移动，其中使用处理室中的处理装置施加涂层，其特征在于所述基板支架设计为旋转鼓；另外，这些鼓平行于鼓的旋转轴通过处理装置的处理区且以恒定的线速度和角速度旋转，而选择所述线速度和角速度的比率，以使得通过处理装置的处理区时，所述鼓表面上的每一个点进行至少两次完整的公转。