一种制造可见光和近红外光双波段减反射膜玻璃方法

摘要

本发明公开了一种制造可见光和近红外光双波段减反射膜玻璃的方法，所述可见光和近红外光双波段减反射膜玻璃包括有玻璃基片，在所述的玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有七个膜层，其中第一膜层即最内层为Al₂O₃层，第二层为ZrO₂层，第三层为Al₂O₃层，第四层为ZrO₂层，第五层为Al₂O₃层，第六层为ZrO₂层，最外层为MgF₂层。本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种制造对可见光和近红外光有高透过率，能够保障人眼安全的可见光和近红外光双波段减反射膜玻璃的方法。

主权项

一种制造可见光和近红外光双波段减反射膜玻璃方法，其特征在于，所述双波段减反射膜玻璃包括玻璃基片(1)，所述玻璃基片(1)的复合面上由内到外依次相邻地复合有七个膜层，其中第一膜层即最内层为Al₂O₃层(21)且其膜层厚度为140～160nm，第二膜层为ZrO₂层(22)且其膜层厚度为280～320nm，第三膜层为Al₂O₃层(23)且其膜层厚度为140～160nm，第四膜层为ZrO₂层(24)且其膜层厚度为280～320nm，第五膜层为Al₂O₃层(25)且其膜层厚度为140～160nm，第六膜层为ZrO₂层(26)且其膜层厚度为280～320nm，最外膜层为MgF₂层(27)且其膜层厚度为120～140nm；所述可见光光谱范围为0.43μm‑0.9μm，所述近红外光光谱范围为1.54μm；本制造方法包括如下步骤：(1)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；(2)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射锆靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；(3)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；(4)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射锆靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；(5)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；(6)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射锆靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；(7)镀制MgF₂层，采用离子蒸发法镀制MgF₂。