带基片加热和气氛处理的匀胶机

摘要

一种带基片加热和气氛处理的匀胶机，包括：一圆筒；一立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部；一升降支架位于立轴上，该升降支架的上端为置物台，该升降支架可以旋转；一进气管道从圆筒外部通入圆筒内；一活动喷嘴的一端与进气管道相连，另一端对准该升降支架上端的置物台；一立柱固定在圆筒内的一侧，该立柱的上端连接有一支臂，该支臂的另一端与活动喷嘴相连，通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向；一泵，该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接，用于抽、放气体，保证样品的吸附和脱吸附；一顶盖扣置于圆筒的上方。本发明能在气氛处理的情况下在基片上旋涂薄膜，从而能够实现边化学反应边旋涂薄膜的效果。

主权项

一种带基片加热和气氛处理的匀胶机，包括：一圆筒；一立轴，该立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部；一升降支架，该升降支架位于立轴上，该升降支架的上端为置物台，该升降支架可以旋转；一进气管道，该进气管道从圆筒外部通入圆筒内；一活动喷嘴，该活动喷嘴的一端与进气管道相连，另一端对准该升降支架上端的置物台；一立柱，该立柱固定在圆筒内的一侧，该立柱的上端连接有一支臂，该支臂的另一端与活动喷嘴相连，通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向；一泵，该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接，用于抽、放气体，保证样品的吸附和脱吸附；一顶盖，该顶盖扣置于圆筒的上方。