发明名称 投影装置与深度测量系统
摘要 本发明提供一种投影装置与深度测量系统,该投影装置包括至少一光源、至少一图案单元以及投影镜头。光源提供照明光束。图案单元具有固定不变的图案,且配置于照明光束的传输路径上,以将照明光束转换为图案光束。投影镜头配置于图案光束的传输路径上。光源提供至少一发光组合,图案光束对应地具有至少一图案组合。一种深度测量系统亦被提出。
申请公布号 CN104614925B 申请公布日期 2016.09.21
申请号 CN201410163069.6 申请日期 2014.04.22
申请人 扬明光学股份有限公司 发明人 张吉龙;庄庚翰;康博铨
分类号 G03B21/14(2006.01)I;G03B21/20(2006.01)I;G01B11/25(2006.01)I;G01B11/22(2006.01)I 主分类号 G03B21/14(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种投影装置,其特征在于,包括:多个光源,提供多个照明光束;多个图案单元,具有固定不变的图案,且对应地配置于所述多个照明光束的多个传输路径上,以将所述多个照明光束转换为多个图案光束;投影镜头,配置于所述多个图案光束的传输路径上,其中,所述多个光源提供至少一发光组合,所述多个图案光束对应地具有至少一图案组合;第一合光单元,配置于所述多个照明光束的所述多个传输路径上;以及内部全反射棱镜,配置于所述多个照明光束的所述多个传输路径上与所述多个图案光束的所述传输路径上。
地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区新安路七号