| 摘要 |
본 발명의 플라즈마 처리 장치는, 제 1 면과 상기 제 1 면에 반대의 제 2 면을 가지며, 상기 제 1 면에서 웨이퍼를 유지하는 웨이퍼 반송용 트레이, 상기 웨이퍼 반송용 트레이를 냉각하는 냉각부, 상기 웨이퍼 반송용 트레이의 상기 제 2 면을 지지하는 도전성의 지지체 및 상기 웨이퍼 반송용 트레이의 상기 제 1 면에 상기 웨이퍼를 정전 흡착하고 상기 웨이퍼 반송용 트레이의 상기 제 2 면에 상기 지지체를 정전 흡착하는 양면 정전 흡착부를 구비한다. |
