| 发明名称 | 氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种通过电解法制造氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物的方法，其目的在于，通过使电解液的电导率为10mS/cm以上来进行电解，使氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物在电解液中析出，并且洗涤析出的氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物，直至洗涤液的电导率为1mS/cm以下，由此抑制生产率的下降以及品质的下降。 | ||
| 申请公布号 | CN103857830B | 申请公布日期 | 2016.09.21 |
| 申请号 | CN201280027688.1 | 申请日期 | 2012.06.12 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 新藤裕一朗;竹本幸一;古仲充之 |
| 分类号 | C25B1/00(2006.01)I;C25B11/04(2006.01)I;C25B11/10(2006.01)I;C25B15/08(2006.01)I;C25D11/34(2006.01)I | 主分类号 | C25B1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 金龙河;穆德骏 |
| 主权项 | 一种通过电解制造氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物的方法，其特征在于，使电解液的电导率为10mS/cm以上来进行电解，使氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物在电解液中析出，并且洗涤析出的氢氧化铟或含氢氧化铟的化合物，直至该洗涤液的电导率为1mS/cm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||