| 发明名称 | 掩膜块、掩膜版及掩膜版的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明所提供了一种掩膜块，掩膜版及掩膜版的制造方法。所述掩膜块包括：至少一个功能部；包围所述功能部的支撑部；以及至少一个开口，设置于所述功能部；由于功能部具有较小的厚度，并且是通过一次刻蚀步骤即可形成mask开口，因而可以降低真空蒸镀遮蔽效应的影响，有利于提高产品的开口率和解析度，同时本发明工艺容易达成，且容易获得较高的刻蚀精度。 | ||
| 申请公布号 | CN105951040A | 申请公布日期 | 2016.09.21 |
| 申请号 | CN201610288874.0 | 申请日期 | 2016.05.03 |
| 申请人 | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 | 发明人 | 辛宇;钱栋;张继帅;李旺;沈永财 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 孟金喆;胡彬 |
| 主权项 | 一种掩膜块，包括：至少一个功能部；包围所述功能部的支撑部；以及至少一个开口，设置于所述功能部；其特征在于，所述开口为所述功能部通过一次刻蚀形成。 | ||
| 地址 | 200120 上海市浦东新区龙东大道6111号1幢509室 | ||